在近两年半导体概念爆热之下，光刻机也成为了大众

光刻技术简单地理解就是做到点沙成金，价值2000元的晶圆在经过光刻处理后，价值暴增12倍至2.5万元，由此可见光刻机对于芯片而言有多么重要，尤其是EUV光刻机，一台更是被卖至天价。

我们都知道，晶圆的原材料是二氧化硅，而二氧化硅正是从沙子中提取出来，中国每年从国外进口千亿美元规模芯片，是因为缺乏芯片原材料沙子吗？显然不是，中国真正缺的就是光刻机。

作为工业技术实力最高的产品，目前全球能够生产出EUV光刻机的公司只有一家，那就是荷兰的ASML，这家企业在全球高端光刻机市场占据90%以上份额，ASML生产的EUV光刻机一台卖到15亿元天价，在这样的情况下，三星、台积电等芯片厂商也争相抢购。

在过去的一年，ASML取得了约1098亿元年营收，2020年实现279亿元净利，净利率高达25.4%。在去年疫情下，ASML全球共卖出258台光刻机，其中EUV光刻机达到31台，之所以EUV光刻机如此受欢迎，主要是芯片制造商要想在先进工艺上实现突破，就必须使用到EUV光刻机。

售价如此不菲的EUV光刻机，制造难度自然可想而知，一台EUV光刻机至少需要超10万零部件，且这些零部件都来自世界各个国家，ASML在这其中则扮演组装的角色，当然组装难度也非常大。

近两年国产芯运动正如火如荼开展，作为芯片制造中的必要设备，中国已经涌现出多家优秀光刻机企业，不过国产光刻机还无法满足先进制程芯片制造，为了推动摩尔定律前进，在芯片领域实现弯道超车，业内人士一直将希望寄托在光刻技术上。

对此ASML想给中国提供高端的EUV光刻机，赚取不错的利润，又担心美国的禁令影响；另一方面，又担心中国逐渐完善光刻机产业链，既占据庞大的中国市场，抢夺自己的市场机会，也担心中国国产光刻机将依靠低价进入国际市场。

光刻技术是芯片制造中的核心技术，光刻分辨率将决定芯片的尺寸，这种计算光刻技术能够有效推动摩尔定律前进。

就在近日中科院网站发布了一则好消息，据悉上海光机所提出一种基于虚拟边与双采样率像素化掩模图形的快速光学邻近效应修正技术，根据实验结果证明，上海光机所这项技术具备较高修正效率。

我们都知道，采用28nm光刻机生产7nm芯片，由于需要进行多次曝光，导致芯片良品率较低，然而上海光机所的OPC技术可以通过软件方式，提高光刻机曝光工艺良品率，这对于节省芯片厂商成本具有重要意义。

值得注意的还有，最近国内最大的光刻机企业上海微电子装备集团股份有限公司的光刻机研发经理罗晋，发表了一个名为《一种针对刚体结构的垂向三自由度运动控制装置的研究》的论文，这份论文的研究表明，该公司已经能够实现指定精度的垂向三自由度运动控制，而该技术用于高端光刻机。

还有一则是也是与光刻机技术有重大关联，上海理工大学光电学院与苏州彗利仪器公司联合实验室研发的数字化激光干涉仪进展顺利，在PV 值测量等核心指标及相关技术达到国际领先水平。

数字化干涉检测技术是结合光学干涉测量原理与计算机技术、 能够实现纳米精度的非接触式测量技术，是超精密光学计量、国家大科学装置及工程、高端工业检测领域最重要的手 段之一。 而光刻机的功能之一，就是搭载超高精度的测量仪器对光学元件的各种参数进行测量，而这一套纳米级的数字化干涉检测技术，正好适用于国产光刻机。

虽然说当前我国光刻机的产业链，只是不断地在单个核心技术上取得突破，但技术都是不断积累的，并且我国光刻机一旦结合和集成这些技术，就可以在先进制程方面越走越近，向DUV和EUV迈进。

可喜的是，根据英国专业的半导体媒体verdict最新的报道提到，中国国产的193nm ArF浸润式光刻机，计划在今年年底之前被上海微电子装备公司生产出来，并且会在上海专门用于生产物联网设备所需要的48纳米和28纳米芯片。

而去年4月，实际上国内也有地方政府网站提到，2020年底国产光刻机光源供应商将与整机单位共同完成28纳米国产光刻机的集成工作。

综合多个信息源来看，随着中国在攻克机技术上的不断突破，相关产业链企业的加强合作，可生产28nm芯片的DUV光刻机已越来越近了。

作者：科技野武士

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