大家都知道，我们在日常生活中用到的移动智能终端都需要用到芯片，而制造芯片必须就要用到光刻机，但是一直以来我们国内的光刻机的制造工艺和国外相比是有一定差距的，尤其是和ASML公司的差距，所以我们在芯片制造上还需要依赖进口。

目前在国内最有实力进行芯片代工的尝试就是中芯国际了，目前该公司在芯片制造上的工艺以及可以达到14nm的等级，但是和目前台积电方面的7nmm甚至爆出的苹果公司即将发布的最新机型——iphone 12所采用的5nm的芯片制造工艺相比，确实还有着不小的差距。

其实在前年的时候，中芯国际就已经向荷兰的ASML公司订购了整整10台的7nm级别的光刻机，但是迟迟到今天对于该机型的交付仍然是个未知数。相比大家心里可能都能够感觉到，迟迟未交付的原因有很多方面，但是科学界的一句共识叫做：科学无国界，现在看来是有点尴尬的。

但是让美国没有想到的是，中芯国际已经取得了绕开了来自进口光刻机的技术，自己成功突破到芯片的7nm制造阶段，这种全新的制造工艺被称为“N+1”技术，其所体现的性能和7nm芯片不相上下，那么现在不需要用到荷兰的7nm光刻机也可以实现量产。中芯国际公开表示，今年年底就可以实现N+1工艺量产，美国这下彻底失算了。

其实除了N+1技术外，中芯国际还在进一步自研了N+2工艺，这是类比5nm芯片的制造工艺，预计明年可以实现量产。荷兰ASML公司已经失去了契约精神，因为美国的阻碍就不给中芯国际供应顶级光刻机，那以后谁还会愿意和你继续合作呢？还有谁愿意相信你呢？

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