我们常说科技是第一生产力，由此也可以看出科技对于一个国家的重要性，而如果一个国家想要大规模生产集成电路，那么必不可少的设备就是光刻机，但是光刻机的生产与制造对技术的要求非常高，而且维护的成本也相当的昂贵，也正是这些苛刻的条件使得当今世界上只有少数国家能够掌握研发制造光刻机的技术。

而根据生产集成电路规模的大小不同，一款光刻机的生产成本一般情况下在3000万美元到五亿元美元之间，由此也可以看出光刻机的珍贵。在之前我国机械工业上需要的设备主要依靠进口其他国家的设备，因为在当时我国没有精密的工艺技术，因此不得不进口国外的生产设备，经过我国坚持不懈的努力和付出，我们在机械工业上的生产已经由原先的全部军口转变为了大规模出口，这是一个巨大的转变，但是对于进行大规模集成电路生产的光刻机产品上，我国仍然需要从西方国家进口，这也使得我国受制于其他国家。

其实在2018年我国就向荷兰ASML公司提买申请，希望从荷兰购买一个价值高达1.5亿美元的光刻机，但是这笔交易却受到了美国的阻拦，美国已经感受到了我国的威胁，因此美国也是不遗余力的打压和扼制我国的发展，由于来自美国方面的压力，荷兰方面也是不得不停止了与我国的合作。

所幸武汉光电国家研究中心的科研团队通过远场光学的方法成功光刻出了九纳米线宽的线段，成功打破了西方国家对光刻机技术的垄断，我国也在这一领域取得了显著的进步。可以说正是美国的阻拦和西方国家的技术封锁，我国才得以通过坚持不懈的奋斗破解了一个又一个难题，因为我们始终相信方法总比困难多。