#中企买下的三台ASML光刻机#

我国半导体近几年来产业发展越来越迅速，工艺水准还是量产能力都有显著的提升。半导体上游材料需求的也跟随着增长；根据数据来看，近三年来中国光刻胶市场每年都在呈上升趋势。

目前，光刻胶行业几乎被美日企业垄断，中国虽然也有能力生产光刻胶的公司，但因为质量上无法和美日企业做比较，所以只占据市场份额的10%左右。

中国产业信息网数据显示，因光刻胶相对比较低端，真正技术难度高的半导体光刻胶所以在国内光刻胶总量仅占2%。

中国光刻胶材料的短缺，在半导体产业上是个隐患。目前并没有厂商拒绝向中国出售光刻胶，但为防范于未然，中国公司都奋斗在光刻胶研发一线，来改变这一垄断现象。

根据官方信息，晶瑞股份企业作为中国光刻胶龙头，为了打破美日垄断，自主研发出高端半导体光刻胶，斥资购买了ASML光刻机。在今年的1月19日购买的光刻机已经进入苏州实验室。该光刻机可生产28nm芯片，最高分辨率达28nm的高端光刻胶或将在不久后诞生。

很多人对光刻胶可能不太了解，但是在芯片生产过程中起到了很大的作用，我国缺少EUV光刻机这使得在芯片生产工艺无法突破突破7nm 的关键问题。

目前，ASML公司已经完成1nm光刻机设计，但如果没有应用于1nm芯片的光刻胶，即便荷兰ASML造出1nm光刻机，台积电、三星等厂商也难以制造出1nm芯片。所以高端光刻胶是非常的重要。因此缺少高端的光刻胶那么就无法完成，那么高端光刻机也就很难实现。

根据科技媒体Deep Tech报道，业界普遍认为，光刻胶将会是阻碍芯片制作工艺升级的屏障。通过以上的信息我们都知道光刻胶对于芯片产业的重要性。晶瑞率先进入研发国产光刻胶。既是在补齐我国芯片产业短板，更是打破美日的垄断。

图片来源于网络，若有侵权请联系删除。