现在，很多高科技产品都要依赖半导体芯片，而半导体芯片需要光刻机来制造。特别是7nm和5nm这种更先进的芯片，就需要更高端的光刻机。但世界各国总共也没几家光刻机厂商，国内还只能生产用于制造中低端芯片的DUV光刻机，无法生产用于制造高端芯片的EUV光刻机，还得靠进口。但美国却出台各种政策，限制国外厂商向中国出口光刻机，以此来卡中国半导体芯片产业的脖子。

当然，我国不可能心甘情愿地受制于人，为了解决卡脖子难题，科研人员也一直在努力。而如今，终于有三项国产技术取得突破性进展，为中国生产自己的EUV光刻机提供了技术基础。接下来，我就给大家分别讲讲，这三项关键技术都是啥，它们又是如何取得突破性进展的。

要生产EUV光刻机，首先就要解决光源的问题。而第一项技术，就是中科院研发出的高能同步辐射光源。它是目前能量最高的光源之一，而且中科院还研发出了相应的设备，用来处理这种光源。经过处理之后，它就可以成为EUV光刻机的光源。

除了光源，EUV光刻机需要的双工作台也有很高的技术难度。第二项技术，就是华卓精科制造的双工作台。和国外厂商的双工作台不同，华卓精科的双工作台目前主要被运用在ArF干式和浸没式扫描光刻机市场，使用效果良好。而想要完全适用于EUV光刻机，还需要在此基础上做出进一步的改进。不过，万事开头难，我们现在有了自己的双工作台，开了个好头，相信后面的科研进度也会顺利的。

而第三项技术，是对EUV光刻机光学系统的研发成果。清华大学攻克技术难点，研发出了极紫外光粒子加速器。它是一种新型的粒子加速器，结合第一项技术的高能同步辐射光源，就有了EUV光刻机核心零部件的制造基础。再加上第二项技术的双工作台，国产EUV光刻机面世的那一天，指日可待。

与此同时，好事接二连三。在国内研发EUV光刻机相关技术，并取得突破性进展的时候，全EUV光刻机领域的行业巨头，荷兰的ASML公司，也向中国抛出了橄榄枝。ASML有多牛呢？本来世界各国就没几家光刻机厂商，而他是全世界唯一一家可以生产最高端的EUV光刻机的厂商。目前，我国的上海微电子，日本的尼康和佳能，离ASML的技术水平都还有一段距离。

所以美国也盯着ASML，限制他们把EUV光刻机出口到中国，就是不想让中国发展半导体芯片产业。之前，ASML也是在看美国的脸色，向我国出口的EUV光刻机特别少，我国也就这样被美国卡脖子了。毕竟ASML是荷兰的公司，荷兰不是一个大国，他们也担心要是不按美国说的办，就会被反过来制裁。

但后来，ASML高层意识到，中国是一个非常大的市场。中国的半导体产业正在蓬勃发展，因此需要大量的EUV光刻机。如果我们可以不受美国限制，把EUV光刻机出口到中国，就会创造非常可观的收益，还能进一步巩固自己全球行业霸主的地位。

还有，你美国的这种做法根本不合理嘛。我们又不是美国的公司，你凭什么能管我们的产品。而且现在中国也越来越强大了，我们出口EUV光刻机给中国，肯定能获得他们的支持。所以，从自身利益角度考虑，ASML也不怕了，开始对美国放狠话。总裁兼执行长温尼克直接警告美国，说垄断只有死路一条。如果限制EUV光刻机的出口，相信过不了几年，中国就会做出自己的EUV光刻机。到时候，整个欧洲的高科技产业都会受到负面影响。

不得不说，温尼克不愧是专业人士，一眼就能看清问题的关键。中国科技发展的潜力不容忽视。就说空间站吧，上个世纪80年代，美国不让中国参与国际空间站建设。结果现在，国际空间站要在2024年退役，而中国空间站建设得如火如荼，已经吸引了欧洲各国来合作。再说回光刻机，美国限制ASML出口，我们就自己研究，现在也取得了突破性进展。我劝美国还是死心吧，就算你想尽办法搞垄断，打压中国科技发展，我们也仍然越来越强。中国前进的脚步是阻止不了的。除了EUV光刻机，其他被美国卡脖子的技术，相信在未来，也会被我们一一攻克。