有消息称,中科院经过科学家的不懈努力,我国在芯片领域不断取得突破,如我国自主研发的光刻机,为芯片自主生产奠定了坚实的基础。近日,在中科院制造出2纳米芯片,这一个级别的芯片全称为垂直纳米环珊晶体管。实际上就是硅-石墨烯-锗基片。
一. 如果我国自主研发出光刻机2纳米不是梦现在的问题是我们还没有研究出来2纳米光刻机。但是,按照中芯国际的最新报道,中芯国际已经成功绕过荷兰ASML公司光刻机的专利,并能成功制造出7纳米芯片,在今年年底即将量产。不得不说这是个天大的好消息。
二. 光刻机与芯片的关系应该说没有匹配的2纳米光刻机,再好的芯片,也就是基片也制造不出来2纳米芯片。光刻机是把电子元器件,几个亿或几十个亿的电子元器件刻出来,这是最关键的一道工序。目前只有荷兰ASML能生产的光刻机也在5纳米制程上,可想而知,制造出2纳米的光刻机,其技术难度难以想象。
2018年,中芯国际曾向荷兰ASML公司订购两台光刻机,可直至今日,这两台光刻机依然不见踪影,显然荷兰ASML公司已经违约,但这家公司给出的原因是,未获荷兰政府批准,不允许出口。相信明眼人都能知晓其中原因,其实政府不批准并不是关键,关键是美国等西方国家想要卡住我们的脖子,封锁我国的芯片技术。
三. 荷兰ASML没想到的事情发生了这次中芯国际却狠狠地打了ASML的脸,即使没有你的光刻机,"中国芯"依然能够实现自主化生产。早在去年年底,中芯国际CEO梁孟松就对外宣布,目前中芯国际已经成熟地掌握14nm工艺,并且将在2020年第一季度实现量产,预计每个月的产量能达到3K-4K枚,这个消息无疑让中国的芯片行业振奋了起来,因为华为的麒麟710A芯片的工艺正是14nm,并且这款芯片正存在着代工缺口。
据梁孟松介绍称,目前N+1工艺正在测试之中,这种工艺下的芯片有着非常好的性能,在N+1工艺的加持下,芯片功耗相比原来下降一半,SoC面积大幅缩减,测试数据表面,这种工艺已经十分接近台积电的7nm制程工艺了,也就是说,中芯国际在没有ASML光刻机的情况下,也完成了7nm芯片的生产。预计在今年年底实现量产
真的了不起,中芯国际好样的。
小结:我国科技人员经过不懈的努力,硬是拿下了7纳米光刻机这块硬骨头。我们有理由相信,我们有了7纳米技术,那么5纳米,3纳米,2纳米还远吗?小伙伴们你们认为呢?欢迎留言讨论。