在许多工业设计之中，最困难的是制造手机芯片。近年来，由于芯片问题，我国科技企业频频遭遇“瓶颈”。许多中国人对此感到担忧。国内不少厂商也开始加快布局芯片的自主研发。虽然自主研发的国产芯片已进入快车道，但由于我国长期没有先进的光刻设备，与国际顶尖巨头仍有较大差距。

众所周知，芯片设计的研究与开发离不开光刻机，特别是具有先进工艺技术的芯片。但ASML是全球先进平版印刷市场之上的巨头。此前，中芯国际还花了很多钱购买了一台先进的平版印刷机。但由于美国的原因，ASML光刻机无法顺利进入中国，这也给我国7Nm及更先进的工艺技术芯片的发展带来了更严峻的挑战。要知道，我国目前的量产光刻机还处于90nm的阶段，比ASML光刻机落后了十多年。可见差距之大，也说明我国加强光刻机建设刻不容缓。

虽然之中芯国际已经表示可以不用光刻机开发7Nm工艺，但5nm甚至更先进的工艺芯片产品绝对离不开光刻机。如果没有光刻机，就意味着中国在未来的芯片竞争中将落后于对手，未来很可能被对手欺负。

然而，最近传来的好消息是，光刻机的问题可以得到有效的解决。据悉，上海微电子有限公司在紫外光源的帮助之下，成功实现了22nm的突破，推动了国产光刻机的发展，向前迈进了一大步。一旦技术成熟，意味着22nm光刻机将在中国问世，这将推动国产芯片的进一步发展，同时也给其他平版印刷厂家带来了信心，这将有助于推动更多的厂家共同打造国产光刻机，提高中国在国际市场之上的竞争力。

虽然我国在光刻领域取得了新的进展，但国内光刻生产所需的零部件仍需从国外市场进口。显然，在平版印刷的生产过程之中，中国仍然严重依赖外国。然而，无论多么困难，中国企业都不能放弃。光刻机的自主研发是一个漫长的过程。未来，我们需要不断努力，掌握自己手中的核心技术和供应链。希望今后国产光刻机能在国际市场之上取得更好的成绩，使国产芯片能够立足于全球市场。